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GB∕T 20724-2021 微束分析 薄晶体厚度的会聚束电子衍射测定方法
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资料介绍
本文件描述了用透射电子显微镜/扫描透射电子显微镜测定薄晶体试样厚度的会聚束电子衍射方法。本文件适用于测定线度为几十纳米至几百微米、厚度在几十纳米至几百纳米范围内的薄晶体试样厚度。注: 由于透射电子显微镜薄试样的厚度往往不均匀,用会聚束衍射方法测定的是试样被电子束照明区的局域厚度。
标准号:GB/T 20724-2021
标准名称:微束分析 薄晶体厚度的会聚束电子衍射测定方法
英文名称:Microbeam analysis—Method of thickness measurement for thin crystals by convergent beam electron diffraction
替代以下标准:GB/T 20724-2006
引用标准:GB/T 18907-2013 GB/T 27418-2017 ISO 15932:2013
起草人:柳得橹、娄艳芝
起草单位:北京科技大学、中国航发北京航空材料研究院
归口单位:全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
标准号:GB/T 20724-2021
标准名称:微束分析 薄晶体厚度的会聚束电子衍射测定方法
英文名称:Microbeam analysis—Method of thickness measurement for thin crystals by convergent beam electron diffraction
替代以下标准:GB/T 20724-2006
引用标准:GB/T 18907-2013 GB/T 27418-2017 ISO 15932:2013
起草人:柳得橹、娄艳芝
起草单位:北京科技大学、中国航发北京航空材料研究院
归口单位:全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
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