GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法

英文名称：Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
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资料介绍

本标准规定了重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱测试方法。
本标准适用于二次离子质谱法（SIMS）对重掺n型硅衬底单晶体材料中痕量硼沾污（总量）的测试。