Q/ZMS 168-2023 168 碳化硅（SiC）晶圆化学机械抛光用纳米抛光液

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资料介绍

郑州磨料磨具磨削研究所有限公司企业标准 Q/ZMS(N) 168-2023《碳化硅(SiC)晶圆化学机械抛光用纳米抛光液》主要内容的详细总结：

核心主题： 本标准规定了用于碳化硅(SiC)晶圆化学机械抛光(CMP)的纳米抛光液的产品要求、测试方法、检验规则及包装储运规范。

1. 适用范围：

2. 规范性引用文件：

3. 产品代号和标记：

产品代号： “SM” 代表第三代半导体材料化学机械抛光用纳米抛光液。
用途代号：
- LCD：衬底片抛光
- LWY：外延片抛光
磨料含量代号： 以百分比数值直接表示，标准中列出：5 (5%), 10 (10%), 30 (30%), 40 (40%)。
磨料粒度代号： 代表平均粒径范围。
- 50: 平均粒径 ≤ 50 nm
- 100: 平均粒径 50 < Z ≤ 100 nm
- 120: 平均粒径 100 < Z ≤ 120 nm
- 300: 平均粒径 120 < Z ≤ 300 nm
产品标记方法：
- SM - [用途代号] - [磨料含量代号]/[磨料粒度代号]
- 示例： SM-LCD-40/100 表示用于碳化硅衬底片抛光的纳米抛光液，磨料含量为40%，磨料平均粒径在50-100nm之间。

4. 技术要求：

4.1 外观： 根据磨料类型有不同要求：
- 氧化铝/氧化铈类抛光液： 红褐色固液混合物，底部沉淀的磨料应易于通过摇晃摇匀。
- 氧化硅类抛光液： 乳白色均匀液体，无分层现象，上层无清液，底部无沉淀。
4.2 pH值： 根据抛光工艺阶段规定：
- 粗抛液： pH值范围 2.00 - 5.00 (酸性)
- 精抛液： pH值范围 10.00 - 12.00 (碱性)
4.3 磨料粒径： (虽然未在4.3明确要求范围，但第3章定义了粒度代号，第5章规定了测试方法，粒径是产品规格的核心指标，由代号体现)
4.4 净质量偏差：
- 5kg 包装：净质量偏差 ±100g
- 25kg 包装：净质量偏差 ±500g

5. 试验方法：

5.1 外观： 通过目视检查。
- 氧化铝/氧化铈类：摇晃后观察沉淀是否易摇匀。
- 氧化硅类：观察是否均匀、无分层、无清液、无沉淀。
5.2 pH值： 严格按照 GB/T 6368-2008 (电位法) 进行检测。
5.3 磨料粒径：
- 仪器：马尔文 Zetasizer Nano ZS。
- 方法：取抛光液样品，用纯水稀释20倍。将稀释液加入仪器，调整至规定遮光率。测量样品粒度分布，记录平均粒径 (Z-Average)。重复测量3次，取平均值作为结果。
5.4 净质量偏差：
- 使用分度值 1g 的天平称量单桶抛光液总质量。
- 称量相同空桶的质量。
- 净质量 = 总质量 - 空桶质量。
- 净质量偏差 = 实测净质量 - 标定净质量。

6. 检验规则：

检验项目： 外观、pH值、磨料粒径、净质量偏差。
检验频次/抽样：
- 外观： 全检（每桶/件）。
- pH值： 抽检。每生产或储存 500kg 产品抽样检测1次（不足500kg按500kg计）。
- 磨料粒径、净质量偏差： 抽检。按包装单位数量抽取1%（不足1个包装单位时抽取1个）。

7. 标志、包装、运输和贮存：

7.1 标志：
- 内包装标志 (必须包含)： 厂名/商标、产品名称、产品型号、规格、产品批号、有效期。
- 外包装标志 (必须包含)： 厂名/商标、产品名称、产品型号、规格、产品批号。
7.2 包装：
- 内包装： 定制塑料壶/桶。要求干净、密封性好、无泄漏。
- 外包装： 硬质纸箱。包装需牢固，符合运输安全要求。
7.3 运输： 需符合一般货物运输的相关规定。
7.4 贮存：
- 环境： 5°C ~ 40°C（摄氏度），通风、干燥。
- 状态： 密闭储存。
- 其他要求： 远离明火。
- 有效期： 12个月（自生产之日起）。

总结关键点：