本文件描述了一系列高度径向二阶导数法（ZDD）评价半导体晶片的近边缘几何形态的方法。本文件适用于硅抛光片、硅外延片、SOI片及其他带有表面层的圆形晶片，也用于其他半导体材料圆形晶片近边缘几何形态的评价。标准号：GB/T 43894.1-2024标准名称：半导体晶片近边缘几何形态评价　第1部分：高度径向二阶导数法(ZDD)英文名称：Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry...